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IRE Laboratory／界面反応成長研究所同志社大学理工学部クリーンルーム内のVG80Hを改良したプラズマ支援分子線エピタキシー成長装置を利用してSi基板からスタートしてダブルバッファー層の作製、AlNのテンプレートの成長を計測して目的とする3族窒化物半導体単結晶薄膜を作製します。
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同志社大学理工学部クリーンルーム内のVG80Hを改良したプラズマ支援分子線エピタキシー成長装置を利用してSi基板からスタートしてダブルバッファー層の作製、AlNのテンプレートの成長を計測して目的とする3族窒化物半導体単結晶薄膜を作製します。
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同志社大学理工学部クリーンルーム内のVG80Hを改良したプラズマ支援分子線エピタキシー成長装置を利用してSi基板からスタートしてダブルバッファー層の作製、AlNのテンプレートの成長を計測して目的とする3族窒化物半導体単結晶薄膜を作製します。
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The 6th International Symposium on Growth of III-Nitrides (ISGN-6)に参加して研究発表をしました。 ＧａＮ系結晶を基軸とした 族窒化物系半導体材料のプラズマ支援高周波分子線エピタキシー RF-ＭＢＥ 成長装置を利用した成膜技術開発を行ない、特に、Ｓｉ基板上のＧａＮ系の成膜を実施する方法として、特異なダブルバッファー層の作成、ＡｌＮのテンプレートを経由した手法により、独自の界面特性の創出を図っている。
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Address of New IRE Laboratory is as follows. 3-19, Nanasegawa Miyamaki, Kyoutanabe, Kyoto 610-0313, Japan. Office of IRE Laboratory, 311 was closed at D-egg. Presented short oral presentation and Poster at The 6th International Symposium on Growth of III-Nitrides(ISGN-6). Under the precise control of interface reaction, IRE laboratory aims at contribute human society. Basic guideline 0f IREL. Development of MBE growth techniques for GaN on Si. X-ray characterization of epitaxial films and epitxial devices.
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プロフィール 竹本 菊郎 たけもと きくろう. 竹本 菊郎 たけもと きくろう. 化合物半導体の研究開発 事業化を推進していた半導体事業部及び伊丹研究所(兼務)に勤務して住友電気工業 株 を定年退職。 株 エー シー イー 顧問 、 株 オーエステック 顧問 、北浜国際特許事務所 顧問 他、多くの企業の顧問を兼務。 高圧ガス保安協会 専任講師で 会長賞 拝受(2005)。
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プロフィール 大鉢 忠 おおはち ただし. 大鉢 忠 おおはち ただし. Solid State Ionics of Silver Compounds Ionic and Electronic Properties of the High-Temperature Phase of Silver Compounds and Their Technological Applications 銀化合物における固体イオニクス 銀化合物高温相のイオンおよび電子的性質ならびにそれらの工学的応用. イギリス,バース大学Dr. Pamplinのもとで在外研究。 Editor of Progress in Crystal Growth and Characterization of Materials. General secretary, Organizing committee of International Conference on Crystal Growth-13 in Conjunction with Vapor Growth and Epitaxy-11 (ICCG-13/ICVGE-11).
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竹本菊郎が第５回 電子デバイス 回路 照明 システム関連教育 研究ワークショップにて基調講演と特別賞を受賞しました。 ＧａＮ系結晶を基軸とした 族窒化物系半導体材料のプラズマ支援高周波分子線エピタキシー RF-ＭＢＥ 成長装置を利用した成膜技術開発を行ない、特に、Ｓｉ基板上のＧａＮ系の成膜を実施する方法として、特異なダブルバッファー層の作成、ＡｌＮのテンプレートを経由した手法により、独自の界面特性の創出を図っている。
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Incorporated on August 18, 1950 . Marching forward to ISO 14000. Has four Production Plants viz. Minerals Division at Chavara, Manavalakurichi, OSCOM and Rare Earths Division at Aluva. Mining and separation of Heavy Minerals like, Ilmenite, Rutile, Zircon, Sillimanite, Garnet and Monazite. Also engaged in chemical processing of Monazite to yield Thorium compounds, Rare Earth Chlorides and Tri-Sodium Phosphate. Polishing glass/ TV tubes and in sand blasting etc. Provides Value for money to its Customers.
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